粉末冶金技術(shù)在濺射靶材制備中的研究現(xiàn)狀

摘要： 磁控濺射靶材由于沉積速率快、鍍膜均勻等優(yōu)點(diǎn)，已成為各類薄膜材料的首選制備方法。同時(shí)薄膜材料的廣泛應(yīng)用使得靶材的需求量逐年增多。近年來，粉末冶金技術(shù)在濺射靶材制備中得到了廣泛應(yīng)用。本文對(duì)靶材制備中使用的粉末冶金技術(shù)進(jìn)行總結(jié)和工藝分析，并闡述熱壓燒結(jié)、熱等靜壓燒結(jié)、放電等離子燒結(jié)的研究現(xiàn)狀，最后探討靶材制備研究中存在的技術(shù)問題和發(fā)展趨勢(shì)。 （共5頁）