硅、鉻摻雜對TiAlN基涂層微觀結(jié)構(gòu)及摩擦學性能的影響

摘要： 分別以Ti_(0.5)Al_(0.5)、Ti_(0.5)Al_(0.4)Cr_(0.1)、Ti_(0.5)Al_(0.4)Si_(0.1)為靶材，采用電弧離子鍍技術制備了TiAlN涂層、Ti Al Si N涂層和Ti Al Cr N涂層，研究了硅、鉻摻雜（二者摻雜量近似相同）對Ti Al N基涂層微觀結(jié)構(gòu)、力學性能以及摩擦學性能的影響。結(jié)果表明：Ti Al N涂層、Ti Al ... （共7頁）