基于光刻膠修正技術(shù)的石英錐形側(cè)壁刻蝕工藝研究

摘要： 基于光刻膠修正技術(shù)，采用兩步刻蝕法對(duì)石英錐形側(cè)壁的刻蝕工藝進(jìn)行了研究。首先利用Ar, O₂,CF₄氣體對(duì)光刻膠刻蝕，將光刻膠的垂直側(cè)壁修改為錐形側(cè)壁。然后以此為掩膜實(shí)現(xiàn)光刻膠傾斜側(cè)壁向石英材料的轉(zhuǎn)移。兩步刻蝕在同一個(gè)刻蝕腔室內(nèi)完成。詳細(xì)研究了光刻膠修正工藝中刻蝕氣體流量、刻蝕功率、溫度以及刻蝕時(shí)間等工藝參數(shù)對(duì)刻蝕速率、選擇比以及刻蝕形貌的影響。通過綜合優(yōu)化工藝制備出刻蝕面光... （共6頁）