基于勻光管的極紫外消相干和光強均勻化仿真研究

摘要： 自由電子激光光源(free electron laser, FEL)可發(fā)出波長為13.5 nm的極紫外(extreme ultra-violet, EUV)輻射,在EUV光刻領域能夠發(fā)揮重要作用.但FEL自身的高相干特性以及類高斯光強輪廓分布特征,會對成像帶來不利影響,無法滿足EUV光刻領域成像應用需求.本文通過計算模擬的方法,設計了一種匹配FEL應用的、用于EUV波段去相干和... （共12頁）