極紫外光源用大口徑Mo/Si多層膜厚度控制與熱穩(wěn)定性研究

摘要： Mo/Si多層膜是13.5 nm極紫外波段理想的反射鏡膜系，它與極紫外光源的結(jié)合使得極紫外光刻成為了目前最先進的制造手段之一。極紫外光源的實際應(yīng)用對Mo/Si多層膜提出了高反射率、高熱穩(wěn)定性、抗輻照損傷、大口徑等諸多要求。針對極紫外光源用Mo/Si多層膜面臨的膜厚梯度控制和高溫環(huán)境問題，利用掩模板輔助法對大口徑曲面基底上不同位置處的多層膜膜厚進行修正；選擇C作為擴散阻隔層材料，... （共9頁）