全口徑環(huán)形拋光的光學(xué)元件面形誤差影響因素及其控制

摘要： 全口徑環(huán)形拋光是加工大口徑平面光學(xué)元件的關(guān)鍵技術(shù)之一，其瓶頸問題是元件面形的高效高精度控制。通過研究元件面形的影響因素及其控制方法從而提升其確定性控制水平。圍繞影響面形誤差的運(yùn)動(dòng)速度、拋光盤表面形狀誤差和鈍化狀態(tài)等關(guān)鍵工藝因素，建立基于運(yùn)動(dòng)軌跡有效弧長的環(huán)形拋光運(yùn)動(dòng)學(xué)模型，揭示了拋光盤表面開槽槽型對面形誤差的影響規(guī)律；提出了采用位移傳感器以螺旋路徑掃描拋光盤表面并通過插值算法生... （共11頁）